国产最新光刻机多少纳米中国首台7纳米光刻机 _知识经验

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7nm中国芯试产随着科技的高速的发展，手机等智能电子产品对芯片的性能要求越来越高，由于国内半导体行业的水平与发达国家存在着一定的技术差距，每年都要从外进口近3000亿美元的芯片。
然而，随着我国在越来越多的科技领域实现零的突破，成为业内领头羊，让美国感受到了压力，为了巩固自己世界第一科技大国的地位，便开始对我国企业进行打压，芯片断供成为其目前打压我国企业最常用的手段，也是最有效的。

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尽管美国的芯片断供在一定程度上限制住了我国企业发展的速度，但是我们并没有选择妥协退让，而是知难而上，加大了科研的力度，并且取得了不错的成绩。
近日，据国内多家媒体报道，中芯国际自主研发的“N 1”芯片制程工艺已经成熟，可以绕过EUV光刻机制造出7nm芯片，且将在4月份进行风险量产。

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前不久，中芯国际正式与荷兰ASML公司签订近12亿美元的DUV光刻机采购协议，而中芯国际的7nm芯片就是在DUV光刻机制造的，不得不说，中国科学家是最有智慧的一批人，可以做到别人认为几乎不可能的事情。
除此之外，中芯国际也传出关于5nm芯片制程工艺的好消息，已取得多项关键技术的突破，预计将在2023年进行量产。

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对于中芯国际绕过EUV光刻机造出7nm芯片的消息，美国院士詹姆斯发出感慨，美国对中国企业进行芯片出口管控，是一件非常愚蠢的行为。
不但降低了美半导体企业的利润和市场份额，还让中国企业可以节省一大笔芯片开支，进而投入到芯片的研发，完成芯片国产化。现在中国企业已经可以造出7nm芯片，我们还可以用什么方法限制中国科技发展的速度呢？
中国芯崛起已成定局在中芯国际好消息传来的同时，我国芯片制造关键设备方面也传来了多个好消息。

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2月底，清华大学正式宣布，已经发现了一种可用于EUV光刻机的光源，直接加速了我国EUV光刻机的研发进程；三月初，中微公司发布公告，自研的5nm蚀刻机已经投入生产。
几日前，中国电子科技集团正式宣布，旗下装备子公集团成功突破“卡脖子技术”，研制出中束流、大束流、高能、特种应用及第三代半导体等离子注入机，并且实现全谱系国产化，解决我国芯片制造断链的问题。
除此之外，我国也正在从各国收购二手制造芯片的设备，为中国芯的发展进行战略储备。一边收购二手设备，一边自研高端设备，中国芯怎么可能不崛起？